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EnglishX-ray photoelectron-diffraction study of intermixing and morphologyat the Ge/Si(001) and Ge/Sb/Si(001) interface. / Gunnella R.; Castrucci P.; Pinto N.; Davoli I.; Sébilleau D.; De Crescenzi M.. - In: PHYSICAL REVIEW. B, CONDENSED MATTER. - ISSN 0163-1829. - 54:12(1996), pp. 8882-8891.
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http://hdl.handle.net/11581/203177| Titolo: | X-ray photoelectron-diffraction study of intermixing and morphologyat the Ge/Si(001) and Ge/Sb/Si(001) interface. |
| Autori interni: | GUNNELLA, Roberto PINTO, Nicola |
| Data di pubblicazione: | 1996 |
| Rivista: | PHYSICAL REVIEW. B, CONDENSED MATTER |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11581/203177 |
| Appare nelle tipologie: | Articolo |
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