X-ray photoelectron-diffraction study of intermixing and morphologyat the Ge/Si(001) and Ge/Sb/Si(001) interface / Gunnella R.; Castrucci P.; Pinto N.; Davoli I.; Sébilleau D.; De Crescenzi M.. - In: PHYSICAL REVIEW. B, CONDENSED MATTER. - ISSN 0163-1829. - 54:12(1996), pp. 8882-8891.
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Titolo: | X-ray photoelectron-diffraction study of intermixing and morphologyat the Ge/Si(001) and Ge/Sb/Si(001) interface. |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1996 |
Rivista: | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11581/203177 |
Appare nelle tipologie: | Articolo |
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